一层全环绕式的环氧防静电涂层，原本落后、满是灰尘的这处地下工事在眨眼的功夫内就挤身进了全世界最顶级的洁净室。
这样的能力，已经不能用常理去解释，已经彻底超出了现有科学技术的理解范畴。
……
解决完了光刻机生产的环境问题，陈决感受到了来自林卫国等人投递来的炽热目光。
没有过多解释，走上前将面前的几个巨大物资集装箱给打开，里面密密麻麻摆放着制造光刻机的各类原料。
从特制的高压输送电缆，再到精密度极高的激光镜片，还有数台用来制造光刻机零部件的3D打印机器。
在得到上头的通知后，光电所几乎将手里的好东西都拿了出来，许多物资都是实验室保密级别的，随便拿出去一件都足以在市面上申请保护专利。
当然了，想要制造出原子级精度的光刻机并不是那么一件容易的事情。
要知道，就算是现目前的ASML公司都只掌握2.5纳米的光刻精度，原子级精度相当于在ASML公司现有的精度基础上进一步提升25倍。
按照集成电路产业里的摩尔定律进行推算，想要将半导体产业的精度提升一倍所需的时间最少要经过18个月到24个月。
在原有基础上提升25倍精度，如果交给ASML这类公司去研发那就是需要半个世纪。
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